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痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion

簡(jiǎn)要描述:

痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion專為痕量和超痕量元素分析定制,滿足嚴(yán)苛的用水要求。Genie De-ion 是樂(lè)楓專門(mén)設(shè)計(jì),與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統(tǒng)配合使用的純化、取水終端,提供超低元素水平的分析級(jí)超純水,離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平,使用者可通過(guò)Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開(kāi)關(guān)控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合

更新時(shí)間:2024-01-12

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痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion

痕量和超痕量分析在科研、工業(yè)和檢測(cè)等各個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用,這些*靈敏度的分析技術(shù)對(duì)分析過(guò)程中的污染風(fēng)險(xiǎn)零容忍。純水在其中,參與清洗部件、冷卻、標(biāo)準(zhǔn)曲線繪制、樣品制備等諸多環(huán)節(jié)。水的純度,必須滿足嚴(yán)苛的要求。


痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion是樂(lè)楓專門(mén)設(shè)計(jì),與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統(tǒng)配合使用的純化、取水終端,提供超低元素水平的分析級(jí)超純水,離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平,使用者可通過(guò)Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開(kāi)關(guān)控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)、石墨爐原子吸收(GF-AAS)等各種痕量/ 超痕量元素分析技術(shù)。


Genie Deion.jpg

痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion優(yōu)勢(shì)特點(diǎn):

● 裝有 ICP 型超純化柱,對(duì)超純水進(jìn)行深度純化進(jìn)一步去除痕量離子,持續(xù)提供ppt 或亞ppt 離子水平的超純水。

· 優(yōu)化水路設(shè)計(jì),提高過(guò)水量,水質(zhì)穩(wěn)定。

· 柱體耐壓強(qiáng),接口雙重密封,漏水風(fēng)險(xiǎn)低。

· 帶智能識(shí)別碼(RFID),智能化管理,工作狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控,隨時(shí)追溯水質(zhì)歷史數(shù)據(jù)、使用參數(shù)等。

· 安裝更換簡(jiǎn)單,可以單手操作。

● 終端自帶彩色觸摸屏

· 2.4 英寸,實(shí)時(shí)顯示水質(zhì)/ 流速等常用信息。

· 可戴手套和帶水操作。

· 設(shè)置手動(dòng)或定量取水,調(diào)節(jié)流速。

● 布局靈活,安裝便利,節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間


布局靈活Genie De-ion.jpg


典型應(yīng)用

· ICP-MS 分析

· 石墨爐原子吸收光譜分析

· 痕量和超痕量元素分析

· 關(guān)鍵儀器清洗等

應(yīng)用領(lǐng)域/ 行業(yè)

· 電子、芯片、半導(dǎo)體

· 食品、農(nóng)業(yè)、藥品、醫(yī)學(xué)

· 環(huán)保、地質(zhì)

· 核工業(yè)、能源、法醫(yī)、

· 化學(xué)化工等


性能指標(biāo)

超純水技術(shù)指標(biāo)

取水流速

0 - 1.5 L/min

電阻率 ( @ 25℃ )

18.2 MΩ·cm

TOC

< 5 ppb

尺寸及重量

寬 × 深 ×高

21 cm × 29 cm × 53 cm

重量

21 kg


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